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產品簡介

小型真空等離子清洗機是一種專用于表面清潔和改性的高精度設備,其核心原理是利用等離子體技術高效去除物體表面的有機或無機污染物,并實現對材料表面特性的優化。該設備通過引入高能離子源(通常為氫氣、氧氣、氦氣等氣體),在加熱或電場作用下激發氣體分子,使其電離形成等離子體。這些等離子體由高能電子、離子、自由基和激發態分子組成,具有極高的化學活性。在電場的作用下,等離子體中的活性粒子以高速撞擊待清洗物體的表面,通過與污染物分子發生物理轟擊或化學反應,將其分解為揮發性小分子或直接剝離,從而實現表面的深度清潔。除了清潔功能,等離子清洗機還能在一定程度上改變材料表面的物理化學特性。例如,通過選擇不同的工作氣體和處理參數,可以在材料表面引入特定的官能團,從而增強其潤濕性、附著力或生物相容性。這種表面改性功能在微電子制造、光學器件、生物醫學材料等領域具有廣泛的應用價值。

產品參數

等離子體發生器	采用NAENTECH新一代放電專利射頻離子源，頻率偏移量＜0.2KHz，功率0-300W連續可調，自動阻抗匹配；
真空反應腔室	材質316不銹鋼，軍工級密封；腔體容積10.8L；腔體尺寸200(W)270(D)200(H)mm；單層有效處理面積176(W)x210(D)mm；電極數量2個鍍金鋁合金專用電極+2個鋁合金托盤；處理層數3層；單層間距，H:40mm；
氣路控制	配置MFC質量流量控制器，量程0-500 SCCM；氣路數量，2路氣體，支持氧氣，氬氣，氮氣，氫氣等；
真空計	皮拉尼真空計，測量范圍：5×10-2 ～1.0×105 Pa；測量精度:0.1Pa；
抽氣系統	真空泵抽速:8m'/H，配油霧過濾器，極限真空度1PA，降噪減震設計，全金屬連接耦合系統；真空管路配置不銹鋼管路+氣動閥門；
控制系統	全觸摸屏7寸，氣體流量和真空度可實時精準顯示與控制，控制方式PLC；實時監控功率、工作時間；自主專利設計等離子控制系統，自動、手動模式，IO監控；真空防呆、功率防呆、電機過熱報警；支持通入工藝氣體，先進行壓強平衡，可設置平衡時間。
場務條件	電源供應220V 5A；氣管接口直徑6mm；氣體純度99.99%；氣體壓力0.4-0.6Mpa；排氣口KF25。
整機參數	整機功率1300W；外形尺寸，528mm(L)×510.5mm(W)×513 mm(H)。